真空蒸着

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目的

真空という環境が持つ意味を物理の立場から明らかにし、真空を作る技術と計る技術、真空化で金属や有機物質を蒸着する技術を習得する。
原理1)

-真空蒸着法-

真空は圧力によって、低真空,中真空,高真空,超高真空などがあり、真空度によって分けられている。真空度とは残存ガスによって生じる圧力のことであり、例えば、超真空では残存ガス圧が10-8mmHg以下である。真空蒸着法はドライプロセスにおいて、最も一般的な方法であり、不純物の混入が少ないことや、空気中の水分や酸素の影響が少ないことが利点とである。例えば、金属を空気中で加熱すると酸化し、薄膜形成が困難であるが、真空蒸着法を用いると、酸化せず、薄膜を形成することができる。

 真空蒸着法は真空中で物質を加熱蒸発させ基板上に体積させる物理的製膜法である。使用できる物質は常温常圧で固体であり、加熱によって分解しない物質である。真空を作る目的は、気体の性質、熱伝導、気体分子による障害(平均自由行程の低下)を低減するためである。

 平均自由行程とは、気体分子が移動する際に、他の分子と衝突するまでの距離であり、平均自由行程が長いほど、周りに...

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